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    • 10L等离子清洗机 500W/1000W是一种小型化、非破坏性的清洗设备。该等离子清洗机采用低气压激...
    • 本型号匀胶机采用全铝合金腔体,外观美观坚固;腔体上盖则采用360°可视的有机玻璃设计,便于客户使用过...
    • 感应炉CY-GYL-15是一款顶部带有真空吸铸装置的15KW感应加热/熔化系统。这种独特的结构设计通...
    • 本产品是一款小型的1100℃布里奇曼晶体生长炉,配有2英寸的石英管,精密提拉机。布里奇曼晶体生长炉用...
    • 1700℃管式炉采用高质量硅钼棒作为加热元件,加热温度可高达1700℃,炉管管径为50mm,采用高纯...
    • 单靶磁控光纤绕丝溅射...
      单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪,专用于光纤制备薄膜,采用不锈钢高真空腔体,配有带挡板的观察窗,可以观察镀膜过程,挡板则能有效防止观察窗被膜层遮蔽,便于实验的观察记录。腔体上顶开式设计开启方便,易于清理,十分适合实验室使用。整机采用模块化设计,操作逻辑简单,操作界面直观,利于上手
      台式紧凑型三靶磁控溅...
      CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统,主要用于多层氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜研究中性价比*高的镀膜机 . 直流磁控溅射选项可根据要求提供金属薄膜沉积,实现三个直流、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置
      双靶直流磁控溅射镀膜...
      双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备
      单靶直流磁控溅射镀膜...
      单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等
    • CVD法培育钻石
      人造钻石是一种由直径10到30纳米的钻石结晶聚合而成的多结晶钻石,等离子增强化学气象沉积PECVD合成法制造,人造钻石主要用于制造切割工具等工业用途上,同样也被使用在珠宝首饰上
      热丝化学气相沉积(H...
      热丝化学气相沉积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工艺成熟,设备简单等诸多优点,是工业上应用*多的金刚石薄膜制备方法之一。设计用于合成纳米金刚石涂层,CVD金刚石薄膜,微晶CVD金刚石涂层,石墨烯,碳纳米管(CNTs)和各种其他薄膜涂层
      CVD培育钻石设备
      CVD培育钻石是一种由直径10到30纳米钻石晶体合成的多结晶钻石,它的化学成分为碳,运用先进的设备模拟大自然中钻石生长环境,通过化学气象沉积技术(CVD)栽种而成
      MPCVD单晶钻石沉...
      化学气相沉积法制备高品质单晶钻石,化学气相沉积法制备高品质多晶钻石自支撑厚膜,化学气相沉积法制备高品质多晶钻石薄膜
    • 5英寸近距离蒸发镀膜...
      5英寸近距离蒸发镀膜炉适用于薄膜太阳能电池,如CdTe.硫化物和钙钛矿结构太阳能电池,这是一款理想的实验工具
      近距离有机物蒸发镀膜...
      近距离有机物蒸发镀膜炉是一种双加热区快速热处理炉,具有11"外径的石英管。它是专为PVD或CSS(近距离升华)薄膜涂层3英寸直径或2"×2"。近距离蒸发镀膜炉采用两组卤素加热器(顶部和底部),zui大加热速率20ºC/s。两个30段精密温度控制器内置,精度为+/-1ºC。包括RS485端口和控制软件,允许通过PC操作炉子和温度曲线记录。它是研究新一代太阳能电池薄膜的主要工具,如CdTe、硫化物和钙钛矿太阳能电池。
      小型电动升降样品台蒸...
      本产品为桌面型小型蒸发镀膜仪,设备安装有钨丝篮蒸发源,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀
      桌面型水冷样品台蒸发...
      本产品为桌面型小型蒸发镀膜仪,设备安装有钨丝篮蒸发源,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀
    • 全自动电极镀膜卷对卷...
      自动卷对卷涂布机主要适用于磷酸铁锂、钴酸锂、锰酸锂等体系的正负极镀膜工艺
      锂电池专用卷对卷加热...
      这种全自动卷对卷加热涂布机主要用于实验室涂布液体或胶体膜。该设备采用无级变速电机**控制涂膜速度,从而达到使样品匀速前进而均匀涂膜的目的
      实验室锂电池卷对卷加...
      这种全自动卷绕涂布机主要用于实验室涂布液体或胶体膜。该设备采用无级变速电机**控制涂膜速度,从而达到使样品匀速前进而均匀涂膜的目的。刮刀采用全不锈钢材质,重量恒定,可提高涂膜的一致性和均匀性。该设备采用具有真空吸附功能的样品台,可以平稳的吸附样品。同时涂布机具有底部加热功能,加热温度可达120℃,在涂膜过程中实现烤胶功能,从而使膜迅速地干燥,方便收卷操作。
      锂电池隔膜涂布机
      锂电池隔膜涂布机,可进行连续和间歇涂布等类型的涂布要求。设备涂布精度高,一致性稳定性好,广泛应用于锂离子电池、石墨烯薄膜、光学薄膜、陶瓷薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业
    • 全自动超声波气氛加热...
      超声波气氛加热匀胶机是一款直径300mm、灵活的旋转匀胶设备,可通过超声波喷头把胶液喷洒在基片上,进而通过高速旋转使得胶液均匀涂覆在基片上。加热匀胶机也可以单独进行旋涂操作
      紫外线光固化匀胶机
      紫外线光固化匀胶机配有紫外线光源,能够实现对特殊膜料的固化功能,紫外线光固化匀胶机真空吸附固定,操作简单,可自由取放。
      透明亚克力匀胶机带滴...
      CY-SP4-D匀胶机经过小型化设计,整体采用铝合金结构,腔体选用透明亚克力,外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机,*高转速能达到8000转/秒;控制依靠按键和高亮液晶屏,除直接匀胶外还能预存匀胶曲线进行程控匀胶。本仪器在极大的减小了体积的前提下有效的保障了仪器性能和功能,十分适合实验室选购。
      PP腔体八英寸匀胶机
      本型号匀胶机经过小型化设计,整体采用铝合金结构,腔体选用PP工程材料,外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机,转速能达到10000转/分,有效的保障了成膜的均匀性。另外本仪器采用触控屏控制,可以预设匀胶曲线,大大简化了使用过程降低了学习成本,十分适合实验室选购。
    • 热阴极直流等离子体化...
      热阴极直流等离子体化学气相沉积设备(DCCVD)是在常规冷阴极辉光放电基础上发展起来的,主要用于金刚石单晶或多晶膜的沉积生长
      卷对卷PECVD石墨...
      卷对卷PECVD石墨烯制备设备主要应用于计算机和智能手机屏幕,超轻、柔性的太阳能电池,以及新型的发光设备和其他薄膜电子产品
      PECVD-R​旋转...
      本产品为PECVD-R​旋转等离子加强CVD设备。PECVD-R​旋转等离子加强CVD设备十分适合在气氛保护的环境下连续对粉末材料用CVD方法进行包裹和修饰。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积由一台双温区管式炉,一套钨丝蒸发源,一套等离子发生装置以及一套质量流量计组成。PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积适用于无机复合粉末的热处理及粉末表面的均匀包覆。
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